Chemical Vapor Deposition (CVD) (letterlijk vertaald “chemisch verdampen aanbrengen”) is een chemisch opdampproces waarbij een dunne laag materiaal op een substraat (ondergrond) wordt aangebracht.

Onderverdeling

---

Het opdampproces kan weer onderverdeeld worden in;

• APCVD Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition. Opdampproces onder atmosferische druk.

• ACVD of ALCVD Atomic Layer Chemical Vapor Deposition. Opdampproces waarbij lagen gecontroleerd laag voor laag kunnen worden aangebracht.

• HFCVP Hot Filament Chemical Vapour Deposition. Opdampproces onder hoge temperatuur.

• LPCVD Low Pressure Chemical Vapor Deposition. Opdampproces onder gereduceerde atmosferische druk.

• MOCVD Metal Organic Chemical Vapor Deposition. Opdampproces waarbij het opgedampte materiaal gebaseerd is op metaal-organische verbindingen.

• MPCVD Microwave Plasma-assisted Chemical Vapor Deposition.

• PECVD Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition. Opdampproces geschikt voor een lagere temperatuur.

• RTCVD Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition. Versneld opdampproces waarbij alleen het substraat wordt opgewarmd.

• RPECVD Remote Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition. Opdampproces gelijk aan het PECVD proces waarbij het substraat niet in direct contact met de plasma-reactiekamer staat. Hierdoor kan het proces bij (de relatief lagere) kamertemperatuur plaatsvinden.

• UHVCVD Ultra High Vacuum CVD Chemical Vapor Deposition. Opdampproces onder zeer lage druk.

Geschiedenis

---

De term "Chemical Vapor Deposition" werd voor het eerst gebruikt door John M. Blocher. Al in 1852 vermelde de Duitse chemicus Robert Wilhelm Bunsen het proces.

Proces

---

Op het al dan niet verwarmde substraat (oppervlak) wordt als gevolg van een chemische reactie, waarbij een materiaal overgaat van de vaste naar de damptoestand, een dunne laag opgedampt.

Toepassingen

---

• chip productie
• Metaliseren van kunststoffen
• Coaten van metalen ( boren en beitels)
• Coaten van papier

Zie ook

---

Plasma

Bewerkingstechniek

Chemická depozice z plynné fáze | Chemische Gasphasenabscheidung | Chemical vapor deposition | Dépôt chimique en phase vapeur | Chemical vapor deposition | 化学気相成長 | 化学气相沉积